[芯片制造] 芯片制造的简单科普 日期：2018-06-01 15:53:53 点击：309 好评：66
当今市场上几乎所有的电子商品，或多或少都会用几片集成电路（IC）来控制各种功能，复杂的如电脑中的CPU，GPU （图形处理器） ，简单的如电池中防止过度充电的控制电路。不论多复...
[不良分析] PCB上锡不良类型汇总及原因分析 日期：2018-05-02 10:39:57 点击：343 好评：11
一、焊后PCB板面残留多板子脏 1.FLUX固含量高,不挥发物太多 2.焊接前未预热或预热温度过低(浸焊时，时间太短) 3.走板速度太快(FLUX未能充分挥发) 4.锡炉温度不够 5.锡炉中杂质太多或锡的...
[芯片相关原理] 集成电路latch up简介 日期：2013-05-03 16:30:35 点击：2329 好评：19
SCR结构可控硅及闩锁效应 一、SCR可控硅介绍 可控硅又称晶闸管(thyristor)，最早由美国贝尔实验室发明，是由三个及以上pn结组成、具有开关特性的半导体器件的总称，通常使用最多的是...
[测试基础理论] 半导体测试技术 日期：2010-08-15 15:23:02 点击：967 好评：6
本书详细介绍了半导体测试技术，主要针对晶圆测试技术，如PCM相关参数测试，方块电阻测试，晶圆缺陷等，另外详细讲解了测试技术，是本不错的半导体测试方面的参考书籍，非常值...
[芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之三 日期：2010-08-14 09:17:57 点击：849 好评：-5
2-2-4光刻工艺 1光刻的目的在氧化层和金属化层上刻蚀出各种图形，以便下一步进行定域扩散或引出电极。（形成图形） 2光刻的工艺过程：（图27 ） 图27光刻的工艺过程示意 3 光刻的原...
[芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之二 日期：2010-08-14 09:10:55 点击：753 好评：3
图17共发射极输出特性的三个工作区 3输出特性曲线的几种异常情况 1）大电流特性差（图18a）2）小电流特性压缩（图18b） 3）饱和压降大（图18c）4）特性曲线倾斜（图18d） 5）两段饱和...
[芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之一 日期：2010-08-14 08:55:55 点击：1036 好评：8
本文讲解了半导体的一些基本概念和晶体管的制造工艺方面的原理，非常适合初入微电子行业的新人学习之用，可以说是半导体行业入门的通用教材，其实对于半导体行业，基础知识非...
[芯片制造] 半导体制造工艺基础 日期：2010-07-07 15:23:51 点击：433 好评：14
半导体制造工艺基础【施敏等，2007】 【作 者】(美)施敏，(美)梅凯瑞著 陈军宁，柯导明，孟坚译 【形态项】 284页 【读秀号】000006199369 【出版项】 安徽大学出版社 , 2007 【ISBN号】 9...
[芯片制造] 关于芯片fab的一些知识 日期：2009-01-18 16:51:09 点击：964 好评：19
最近有不少的弟兄谈到半导体行业，以及SMIC、Grace等企业的相关信息。 在许多弟兄迈进或者想要迈进这个行业之前，我想有许多知识和信息还是需要了解的。 正在半导体制造业刚刚全...
[芯片制造] 有关芯片trim之poly fuse 和metal fuse 日期：2008-11-18 21:41:11 点击：1789 好评：23
传统的Fuse主要有三种：以大电流烧断的金属熔线(Metal Fuse)和多晶硅熔线(Poly Fuse)，或是以激光烧断之金属熔线(Laser Fuse)。Fuse为电子产品中之关键性零组件，其功能为掌管备用内存(Redu...