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  • [芯片相关原理] 集成电路latch up简介 日期:2013-05-03 16:30:35 点击:1594 好评:8

    SCR结构可控硅及闩锁效应 一、SCR可控硅介绍 可控硅又称晶闸管(thyristor),最早由美国贝尔实验室发明,是由三个及以上pn结组成、具有开关特性的半导体器件的总称,通常使用最多的是...

  • [测试机台] 一种钽电容自动测试系统的介绍 日期:2010-09-17 20:17:31 点击:313 好评:0

    钽电容器是一种较新型的电解电容器,自从五十年代问世以来,即以其优异的性能,如体积小、单位体积电容大(是铝电解的3倍),漏电流少(钽电解要比铝电解小一级数量级),工作温度...

  • [开发经验] 集成电路测试程序优化技术分析 日期:2010-08-15 20:54:47 点击:523 好评:0

    冯蕊,于祥苓,周劲松 (中国电子科技集团公司第四十七研究所,沈阳ll0032) 摘要:介绍了在E 77O测试系统上对集成电路测试程序进行优化的方法。通过具体数据说明应用不同的测试方法...

  • [测试基础理论] 半导体测试技术 日期:2010-08-15 15:23:02 点击:709 好评:-1

    本书详细介绍了半导体测试技术,主要针对晶圆测试技术,如PCM相关参数测试,方块电阻测试,晶圆缺陷等,另外详细讲解了测试技术,是本不错的半导体测试方面的参考书籍,非常值...

  • [芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之三 日期:2010-08-14 09:17:57 点击:651 好评:-6

    2-2-4光刻工艺 1光刻的目的在氧化层和金属化层上刻蚀出各种图形,以便下一步进行定域扩散或引出电极。(形成图形) 2光刻的工艺过程:(图27 ) 图27光刻的工艺过程示意 3 光刻的原...

  • [芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之二 日期:2010-08-14 09:10:55 点击:568 好评:0

    图17共发射极输出特性的三个工作区 3输出特性曲线的几种异常情况 1)大电流特性差(图18a)2)小电流特性压缩(图18b) 3)饱和压降大(图18c)4)特性曲线倾斜(图18d) 5)两段饱和...

  • [芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之一 日期:2010-08-14 08:55:55 点击:739 好评:2

    本文讲解了半导体的一些基本概念和晶体管的制造工艺方面的原理,非常适合初入微电子行业的新人学习之用,可以说是半导体行业入门的通用教材,其实对于半导体行业,基础知识非...

  • [芯片制造] 半导体制造工艺基础 日期:2010-07-07 15:23:51 点击:362 好评:4

    半导体制造工艺基础【施敏等,2007】 【作 者】(美)施敏,(美)梅凯瑞著 陈军宁,柯导明,孟坚译 【形态项】 284页 【读秀号】000006199369 【出版项】 安徽大学出版社 , 2007 【ISBN号】 9...

  • [EDA工具] protel PCB布局布线经验谈 日期:2010-06-29 15:35:43 点击:426 好评:4

    -个布线工程师谈PCB设计的经验 -------------转载 看到不少弟兄的帖子,感觉没有对PCB有一个系统的、合理的设计流程。就随便写点,请高手指教。 一般PCB基本设计流程如下:前期准备...

  • [测试座/socket] IC测试socket基础知识 日期:2010-04-03 16:35:44 点击:670 好评:4

    Socket 是广大测试工程师所经常用到测试夹具,它的好坏直接关系到调试的进度,量产测试的成本以及测试的效率,那么如何针对你的IC选取合适的socket呢?本文将阐述socket的一些基础知...

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