 开路故障（Open） 开路缺陷是制造工艺不当造成的，物理缺陷中大约40%属于开路缺陷。典型的开路缺陷包括线条断开、线条变细、阻性开路和渐变开路等。如下面图（8）所示：  图（8）图中（a）和（b）是电路存在开路的情形，（c）则是造成同时开路和短路缺陷的情形。 开路缺陷的形式取决于缺陷的位置及大小。例如，对于栅极开路（一般称为浮栅，floating gate）这种缺陷，在缺陷面积小的情况下，隧道电流仍可流动，但信号的上升和下降时间增加；在缺陷面积大的情况下，输入信号就在栅极形成耦合，形成的浮栅就获得偏压，此电压可能导致晶体管导通，因此开路故障是否可检测，取决于缺陷的面积和位置。 开路缺陷不一定都可以用Stuck At的模式检测到，如下面图（9）所示：  图（9）上图中，红线部分表示那个mos管的drain与输出开路了，当顺序输入ab为00、01、10、11，从01变换为10的时候，输出Q保持了上面一个状态1,看起来还是正常的，这种情况下，就没有检测出来这个fault。但是如果调整一下输入的向量的顺序为00、01、11、10，就可以发现这个fault。 通过IDD的测试方法，也可以测试出一些open缺陷，如下面的图（10）所示  图（10）上面红色表示open的缺陷，当输入ABCD为1111时，输出O为0，当输出转为0001时候，在x、y和o之间出现了充放电，会有大电流出现。 延迟缺陷（delay faults） 在一些高速芯片应用中，延迟缺陷特别重要，这种缺陷有很多原因，比如小面积的open导致某段线路的阻值偏大。如下面图（11）所示：  图（11）这个path的delay已经超过了一个clock的间隙，通过stuck At的测试方式，可以检测到这个缺陷。但是有的时候，延迟没有超过clock的间隙，就会造成潜在的失效，在某些情况下，比如硬件变化、外界温度变化等，延迟超过clock的间隙，导致缺陷。这种延迟缺陷，可以通过AC测试的方法进行补充，比如测试上升沿的时间、下降沿的时间等等。 2、 Pattern向量测试及IDDQ测试方法 上面给大家介绍了一下各种失效模式及测试原理。通过Pattern向量测试，加以电流测试为补充，可以有效地测试各种faults。 Pattern向量测试的方法 设计人员对某种fault模型进行仿真，给出波形向量，通常是VCD格式或者WGL格式，测试人员需要结合时序、电平和逻辑，进行编程，来对芯片输入向量，以检测输出。如下面图（12）表示的就是测试机force给芯片的一段波形。  图（12）而芯片在接受到这段输入的波形后，运行特定的逻辑，输出波形如下面图（13），测试机需要在指定的strobe window进行比较输出的与预期的逻辑值的情况，以此来判断DUT是否逻辑功能正常。  图（13）下面图（14）是一个AND gate的逻辑测试的例子，实际的输出会有波动，如图中的紫色的波形，在Edge Strobing地方（pattern的timing设定的）采样到此时的输出为High的状态，表明此AND Gate的逻辑功能是正常。  图（14）IDDQ测试的方法： CMOS电路具有低功耗的优点，静态条件下由泄露电流引起的功耗可以忽略，仅仅在转换期间电路从电源消耗较大的电流。Q代表静态(quiescent),则IDDQ表示MOS电流静态时从电源获取的电流。 IDDQ测试是源于物理缺陷的测试，也是可靠性测试的一部分，其有着测试成本低和能从根本上找出电路的问题（缺陷）所在的特点。即若在电压测试生成中加入少量的IDDQ测试图形，就可以大幅度提高电压测试的覆盖率。即使电路功能正常，IDDQ测试仍可以检测出桥接、短路、栅氧短路等物理缺陷。 测试方法如下面图（15）所示  图（15）Step1: 给VDD上最高电压，并且tester的电压源设定一个钳制电流，防止电流过大损测试机。Step2: run一个特定condition的pattern，去toggle尽量多的晶体管on。等待 5~10ms。Step3: 量测流过VDD上的电流。Step4: run另外一个特定condition的pattern，去toggle尽量多的晶体管off。等待5~10ms。Step5: 量测流过VDD上的电流。Step6: 重复上述的step2到step5的步骤大概5~10次，取读出的平均值。跟datasheet中的规范进行比较。 各种测试的测试覆盖率的大概情况如下面图（16）所示：  图（16）如上图所示，hardware直接量测是最直接的方法，但是这种方法可以测试的电路有限，很多内部电路无法通过这种方法完成。 而Stuck At测试和IDDQ测试的组合，可以有效的在时间和成本经济的情况下提高测试覆盖率。 |
