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浅谈ESD防护—全片防护设计方法论(一)

时间:2024-10-01 13:07来源:番茄ESD小栈 作者:ictest8_edit 点击:

 

笔者在之前章节已经对ESD设计的诸多细节进行过阐述,这一期对知识进行整合,从宏观角度探讨一下全片ESD防护设计的方法论。

一.设计基础

1.1 工艺
ESD与工艺的相关性很强。TTL、CMOS、BCD、SOI-BCD、异质结,这些工艺的设计方法与ESD特性都不尽相同,设计前需要摸清工艺特性,尤其对隔离,SAB(RPO),ESD Implant ,ESD mark(ID) 等关键细节要心中有数。

1.2 电路ESD设计并不是独立的一环,在设计之前需要对芯片的电路有一定认知,明晰模块域和电源域的划分、IO工作状态,电源电压等设计细节。同时对版图面积约束、PAD设计、版图布局等也要大致有数(电路和版图设计人员最好也要对ESD有一定认知)。

1.3 需求进行ESD设计前需要明确防护类型与防护等级,除了Component ESD(HBM/CDM)外,也有针对IEC-61000-4-2/-4-5,Do 160G的防护需求。设计前还需要明确芯片所需的防护等级,低等级与高等级的设计成本不一样。
1.4 应用进行ESD设计前需要考虑芯片在后续应用中所面临的其它风险。例如IO端口正负幅度的输入输出,浪涌防护,EFT防护,负载造成的倒灌/过冲等诸多情况。


图一.ESD防护前置基础。

二.设计方法

2.1 Design Window
ESD设计的第一步是确立Design Window:根据IO类型、电路功能、器件、工作状态等技术要求确定Design Window。浅谈ESD防护—Design Window的确立

2.2 ESD防护全片策略
根据芯片需求与Design Window选择全片防护策略。PAD Based策略多用于工况复杂,信号完整性要求低的场景,Rail Based多用于工况稳定,信号完整性要求高的场景。浅谈ESD防护—全片防护设计策略(一)

2.3 ESD器件
ESD器件的设计有四个维度:鲁棒性,高效性,响应速度,透明度。这四个维度相互关联,需要从中平衡出最优解。

2.3.1 鲁棒性
鲁棒性是指器件对ESD电流的泄放能力,如图二所示,鲁棒性是指器件失效时的TLP电流(It2),鲁棒性越好的器件泄放能力越强。器件的工作原理,面积,版图设计等很多因素会影响器件的鲁棒性。

2.3.2 高效性
ESD器件泄放时会产生压降,这部分电压同时作用于电路内部器件。如图二所示,效率越高的ESD器件,泄放ESD时产生的压降越小,内部电路的风险越小。泄放过程中ESD器件的等效电阻决定泄放效率,等效电阻越高,压降越大,效率越低。

2.3.3 响应速度
响应速度是CDM防护的关键指标,CDM的能量远小于HBM,但是其放电速度远大于HBM,所以要求ESD器件能快速开启。寄生电容决定了器件的响应速度,寄生电容越小,响应速度越快。能从VF—TLP中V-T曲线的过冲幅度判断响应速度,过冲越小,响应速度越快,CDM防护性能越佳。要想取得优异的响应速度就要减少器件尺寸,会牺牲器件的鲁棒性和高效性。所以CDM防护一般是由二级防护单元实现,让HBM和CDM通过不同的路径泄放。

2.3.4 透明性
ESD器件需要对内部电路保持透明。ESD器件不能影响信号的电学特性。对于高速信号,ESD器件不能影响其信号完整性,对于大信号,ESD器件不能影响其摆幅,所以需要ESD器件的寄生参数足够小,漏电流足够低,且不能在正常工作条件下开启。



图二.ESD器件四大维度。
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这里解释个概念,Power Clamp是功能名称,用来实现VDD—GND泄放的器件都可以被称为Power Clamp,并不特指某种器件,所以只要情况允许,任何ESD器件都可以用做Power Clamp。

2.4 模块防护设计
现在的芯片越来越复杂,ESD防护需要考虑不同功能域间的泄放通道,模块间插入CDM防护单元,不同电压域的隔离,Power Clamp的交叉泄放,高低电压域间的Common ESD Rail等细节。
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2.5 版图规划
版图是ESD防护中的重中之重,ESD器件毗邻PAD,需要保证足够的过电流能力,同时芯片最外侧需要建立ESD Rail Ring,确保PAD-PAD 泄放时寄生电阻足够低。浅谈ESD防护—版图设计(一)
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浅谈ESD防护—版图设计(三)

2.6 中间结点判定目前所有的ESD测试规范都是两引脚测试,这种情况下势必要考虑中间结点的问题。尤其是Stack ESD、高低压混合、正负压防护等情况。下面举两个例子:



图三.高低压混合ESD防护电路中间结点示意图。
如图三所示:对HVIO和LVIO进行ESD测试,HV端口的工作电压是45V,HVESD的触发电压是60V,LV端口的工作电压是5V,LVESD的触发电压是8V,两个端口的ESD单元通过Common GND进行连接。测试时HVIO到LVIO两个端口间的压差为68V,HVESD到GND的压差是60V,LVIO到GND的压差是8V。只要保证HVIO到LVIO这条通路上总的耐压超过68V,HVIO到GND之间的耐压超过60V,LVIO到GND之间的耐压超过8V,所有的电位差都处于SOA内,这次测试就处于安全的状态。这也引出了一个设计规范:低压域的信号不能直接控制高压域,反之高压域的信号也不能直接控制低压域。这样做能避免HVIO与LVIO在ESD时的失效风险。

 

图四.三极管对管输入中间结点示意图。
如图四所示为常见的三极管对管输入电路,两个对管间发生ESD时,如果:

ESD Trigger Voltage>BVeb

那么A点就会成为ESD泄放的中间结点,两个对管N1的基级P+/射级N+—N2的射级N+/基级P+就会取代ESD防护单元成为新的泄放通路,ESD电流会进入芯片内部,失效风险骤增。所以三极管的对管输入需要建立额外的ESD通路。这两个例子表明了设计ESD通路中间结点的重要性,ESD测试中两个PAD间众多中间结点的电压是变化的,所以要考虑压降的分配,如果分配错位就会带来风险。

2.7 特殊设计需求
2.7.1
 System ESD
System ESD主要有空气放电、接触放电、浪涌。System ESD的能量远大于Component ESD。针对空气放电、接触放电需要建立足够强大的ESD单元,有时会采用级联结构或功率电阻来增加防护能力。(具体防护方法笔者日后会阐述)。

2.7.2 正负幅度输入输出在某些总线收发端口上会产生高于VDD或低于GND的正负幅度大信号,针对该类端口需要采用特殊的ESD结构。(具体防护方法笔者日后会阐述)。

2.7.3 过冲/过流抑制某些芯片在应用过程中需要ESD单元对端口负载造成的过冲或过流进行抑制,这类ESD单元的设计要额外考虑其电学参数。

2.7.4  SIP设计芯片进行SIP设计时,需统筹多个芯片间的ESD防护设计。随着现在SIP的工艺越发先进,SIP的复杂程度越高,对可靠性的考验越大,尤其是硅基芯片和第三代半导体芯片的关联防护设计,两者工艺差异大,工况复杂,所以技术要求更多。浅谈ESD防护—SIP的ESD防护难题(一)
 


 
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