一、IC封装样品失效分析 FA(Failure Analysis),失效分析不仅有助于提高产品可靠性,而且可以带来很高的经济效益,是IC生产中不可缺少的部分。
按照分析目的或分析手段,FA可分为:
EFA(Electrical Failure Analysis),是以电学测试为主的失效分析;
IC封装样品失效分析
失效分析的目的:分析失效现象,确定失效原因,提出改善建议,提高产品可靠性。如何做失效分析:先简单后复杂,先外后内,先无损后有损。 IC封装样品失效分析 4.SEM & EDX(扫描电镜及能谱检测) 5. Decapsulation(开帽检查) 6.Cross-Section (Polish&FIB) 7.EFA(EMMI, OBIRCH, InGaAs) X射线肉眼不可见,但可是照相底片感光,具有很强的穿透力。 X射线本质上是一种波长很短的电磁波,波长范围0.01~ 10nm,介于紫外线与γ射线之间。
1.在阴极灯丝1与阳极4之间加直流高压(上万伏); 2.灯丝产生大量热电子; 3.电子在高压电场作用下,冲击阳极上的靶材5; 4.靶材受电子激发产生X射线; 灯丝的材质通常为钨,靶材的材质有Ti、Cu、Mo等。
应用举例: 引起润湿不良的原因通常有:
造成的空洞的原因主要有:1.镀液与UBM润湿不够,导致夹杂或小气泡残留在UBM表面,这方面杯镀机台更容易产生空洞;2.镀液沾污导致夹杂物残留在Bump内部。
需要注意的是,X射线检测存在一个缺陷,通过X射线将立体的缺陷投影到平面上,因此无法确定缺陷的具体位置和大小,有时还会引起误判,例如下图所示。此种情况需要从垂直的两个方向来进行X射线成像。
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