[封装技术] IC封装的材料和方法 日期:2013-05-18 20:24:05 点击:3791 好评:844
集成电路(IC)在电子学金字塔中的位置既是金字塔的尖顶又是金字塔的基座。说它同时处在这两种位置都有很充分的根据。从电子元器件(如晶体管)的密度这个角度上来说,IC代表了...
SCR结构可控硅及闩锁效应 一、SCR可控硅介绍 可控硅又称晶闸管(thyristor),最早由美国贝尔实验室发明,是由三个及以上pn结组成、具有开关特性的半导体器件的总称,通常使用最多的是...
[测试机台/ATE] 一种钽电容自动测试系统的介绍 日期:2010-09-17 20:17:31 点击:1168 好评:864
钽电容器是一种较新型的电解电容器,自从五十年代问世以来,即以其优异的性能,如体积小、单位体积电容大(是铝电解的3倍),漏电流少(钽电解要比铝电解小一级数量级),工作温度...
冯蕊,于祥苓,周劲松 (中国电子科技集团公司第四十七研究所,沈阳ll0032) 摘要:介绍了在E 77O测试系统上对集成电路测试程序进行优化的方法。通过具体数据说明应用不同的测试方法...
[测试基础理论] 半导体测试技术 日期:2010-08-15 15:23:02 点击:1959 好评:350
本书详细介绍了半导体测试技术,主要针对晶圆测试技术,如PCM相关参数测试,方块电阻测试,晶圆缺陷等,另外详细讲解了测试技术,是本不错的半导体测试方面的参考书籍,非常值...
[芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之三 日期:2010-08-14 09:17:57 点击:2686 好评:521
2-2-4光刻工艺 1光刻的目的在氧化层和金属化层上刻蚀出各种图形,以便下一步进行定域扩散或引出电极。(形成图形) 2光刻的工艺过程:(图27 ) 图27光刻的工艺过程示意 3 光刻的原...
[芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之二 日期:2010-08-14 09:10:55 点击:2895 好评:538
图17共发射极输出特性的三个工作区 3输出特性曲线的几种异常情况 1)大电流特性差(图18a)2)小电流特性压缩(图18b) 3)饱和压降大(图18c)4)特性曲线倾斜(图18d) 5)两段饱和...
[芯片制造] 半导体基础知识与晶体管工艺原理之一 日期:2010-08-14 08:55:55 点击:2949 好评:547
本文讲解了半导体的一些基本概念和晶体管的制造工艺方面的原理,非常适合初入微电子行业的新人学习之用,可以说是半导体行业入门的通用教材,其实对于半导体行业,基础知识非...
半导体制造工艺基础【施敏等,2007】 【作 者】(美)施敏,(美)梅凯瑞著 陈军宁,柯导明,孟坚译 【形态项】 284页 【读秀号】000006199369 【出版项】 安徽大学出版社 , 2007 【ISBN号】 9...
[EDA工具] protel PCB布局布线经验谈 日期:2010-06-29 15:35:43 点击:938 好评:1004
-个布线工程师谈PCB设计的经验 -------------转载 看到不少弟兄的帖子,感觉没有对PCB有一个系统的、合理的设计流程。就随便写点,请高手指教。 一般PCB基本设计流程如下:前期准备...