1、掺杂的半导体如果将本征半导体进行掺杂处理,我们可以得到P型半导体和N型半导体。如图1-1,P型半导体以空穴作为多数载流子,N型半导体以电子作为多数载流子。如果单纯的对掺杂半导体进行通电,我们会发现半导体的导电能力大大增强了(相对于本征半导体),在相同掺杂浓度的半导体中,N型半导体体的导电能力更强(电子的迁移率大约是空穴迁移率的3倍)。如果将一个P型半导体和一个N型半导体合在一起,那么由于扩散运动,N型半导体内的电子会跑到P型半导体中和空穴复合;P型半导体的空穴会跑到N型半导体内与电子复合。那么这个时候在结合面的附近P型半导体空轨道被电子填满形成带负电的粒子,而N型半导体失去自由电子,形成带正点的粒子,扩散运动形成了正负粒子构建的内电场。随着扩散深度的加强,内电场的场强在增加,此时进入电场内的载流子被加速:电子逆着电场方向移动,空穴沿着电场方向移动,P型半导体获得空穴,N型半导体获得电子,从而使内建电场强度减弱形成“负反馈”。最终PN 结的内建场强处于一个动态平衡之中,如图2-1。 在PN结的内建电场区域几乎没有自由移动的载流子,而正负粒子被晶格所束缚不能自由移动。这个空间区域称为空间电荷区,也叫耗尽层,也叫势垒区。在初学模拟电路的时候,我们经常会被这三个名词所困惑,这里我们不妨再看一下:空间电荷区是按照电荷特性划分的,该部分是不能自由移动的电荷;从电场的角度来看,内建电场阻碍了载流子的扩散,就像一堵墙一样,如果载流子要通过这个区域必须获得克服该势垒的能量;从载流子的角度来看,这里的电子和空穴进行了复合,仿佛附近的载流子被消耗了一般,因此也称为耗尽层。所以,空间电荷区 = 势垒区 = 耗尽层。 PN结形成的耗尽层,可以说是整个半导体工业的基础结构:因为其单相导电性。如图3-1,如果我们在P型半导体加上正电压,N型半导体加上负电压,P型半导体电子被抽走,剩下空穴;N型半导体获得电子补充。外部电压提供的电子和空穴在耗尽层进行复合,空间电荷区减小,形成源源不断的电流流动。相反,如图3-2,如果在P型半导体上加上负电压,N型半导体上加上正电压,P型半导体获得多余的电子;N型半导体电子被抽走,留下带正电的空穴,空间电荷区增加,内建场强增加,阻碍电子的漂移运动,PN结保持截止状态。 在使用半导体器件中,经常碰到一个概念,就是这个器件的某个参数(比如等效阻抗,击穿电压)是正温度系数还是负温度系数。温度对半导体的特性有着至关重要的影响,那么在微观层面温度是如何影响PN结的呢? 温度的升高一方面可以提高半导体的本质载流子激发,一定程度提高了载流子浓度,更多的载流子参与导电电阻率降低;另外一方面,温度的上升导致晶格的振动增强,载流子的平均自由程变短,载流子的迁移率降低,电阻率升高。 由于工艺和应用场景不同,不同型号的二极管正向导通压降呈现正温度系数或者负温度系数。如图4-1,两个相同二极管并联。如果二极管特性如左图,其中一个二极管温度较高,那么该二极管分流的电流就越大,而电流越大温度越高,进一步加剧该二极管的分流,导致最终该二极管承受绝大部分的电流,可能引起二极管的热失效;如果二极管特性如右图,在大电流条件下,正温度系数的管压降能够自动对并联二极管进行均流,该特性的二极管才满足并联使用条件。 如果我们使用两个重掺杂的P型半导体和N型半导体制造二极管,那么载流子的浓度会很高,PN结的耗尽层会非常的薄。这时候加上反向电压能够轻松帮助载流子穿过势垒区,从而获得一定的反向电流,这种击穿称为“齐纳击穿”,该二极管称为齐纳二极管。如图5-1,进入反向击穿区(Reverse breakdown),电流迅速增大,电压保持不变,因此也称为“稳压二级管”。 简单来说,使用高掺杂的半导体形成较薄的耗尽层,载流子的迁移过程中晶格和杂质离子对载流子的散射作用比较有限,可以忽略。载流子可以很轻易的穿过耗尽层,形成耗尽层的击穿。但是这种击穿能量又不高,是一种可恢复的击穿。随着温度的升高,耗尽层内的载流子活性增强,击穿电压降低。漏电流增加,这在电路设计时需要注意。 比较下齐纳击穿和雪崩击穿,如图5-2可以看出,雪崩击穿的曲线拐点较缓慢,而齐纳击穿的拐点较陡。并且先发生齐纳击穿,再发生雪崩击穿,雪崩击穿能量要比齐纳击穿的能量大得多。 |